Исследование воздействия плазмы метана на свойства оксида графена

Нажмите для полного просмотра!

Исследование воздействия плазмы метана на свойства оксида графена, слайд №2

Исследование воздействия плазмы метана на свойства оксида графена, слайд №3

Исследование воздействия плазмы метана на свойства оксида графена, слайд №4

Исследование воздействия плазмы метана на свойства оксида графена, слайд №5

Исследование воздействия плазмы метана на свойства оксида графена, слайд №6

Исследование воздействия плазмы метана на свойства оксида графена, слайд №7

Исследование воздействия плазмы метана на свойства оксида графена, слайд №8

Исследование воздействия плазмы метана на свойства оксида графена, слайд №9

Исследование воздействия плазмы метана на свойства оксида графена, слайд №10

Исследование воздействия плазмы метана на свойства оксида графена, слайд №11

Исследование воздействия плазмы метана на свойства оксида графена, слайд №12

Содержание ▲

Вы можете ознакомиться и скачать презентацию на тему Исследование воздействия плазмы метана на свойства оксида графена. Доклад-сообщение содержит 12 слайдов. Презентации для любого класса можно скачать бесплатно. Если материал и наш сайт презентаций Mypresentation Вам понравились – поделитесь им с друзьями с помощью социальных кнопок и добавьте в закладки в своем браузере.

Слайды и текст этой презентации

Слайд 1

Описание слайда:

Исследование воздействия плазмы метана на свойства оксида графена Выполнил студент Слепцов В.С. РФ-16 Науч. Рук. Неустроев Е.П. Якутск 2019

Слайд 2

Описание слайда:

Актуальность: Плазменная обработка является эффективным методом модификации свойств оксида графена, в свою очередь плазма метана является эффективным восстановителем оксида графена и позволяет залечивать дефекты кристаллической решётки оксида графена. В то же время воздействие плазмы метана на углеродные материалы ещё не полностью изучены. Актуальность: Плазменная обработка является эффективным методом модификации свойств оксида графена, в свою очередь плазма метана является эффективным восстановителем оксида графена и позволяет залечивать дефекты кристаллической решётки оксида графена. В то же время воздействие плазмы метана на углеродные материалы ещё не полностью изучены. Цель: Исследовать воздействие плазмы метана на свойства оксида графена Задачи: Освоить работу на экспериментальных установках и подготовить образцы для измерений. Измерить сопротивление и спектры комбинационного рассеивания света Провести обработку и анализ экспериментальных данных, подготовить отчёт о проделанной работе.

Слайд 3

Описание слайда:

Методика эксперимента: Экспериментальная установка «Этна»: установка используется для плазмохимического травления и очистки поверхности пластин полупроводников и диэлектриков. Мощность до 300Вт, поток газа до 100 См3, давление менее 1 мбар, ТК (200 С) ASEC-03: система предназначена для исследования электрических и фотоэлектрических свойств и определения электрофизических параметров полупроводниковых и диэлектрических материалов. Формула для расчета лоренцианов кривой пиков спектров КРС: y=y0 + (2*A/PI)*(w/(4*(x-xc)2 + w2))

Слайд 4

Описание слайда:

D и G пики спектров КРС Природа D пика связана со степенью структурного беспорядка вблизи края микросталлической структуры, который уменьшает симметричность структуры. G пик характеризует графен в плоскости колебательной моды sp2- данный параметр отображает степень кристаллизации материала

Слайд 5

Описание слайда:

Зависимость сопротивления от времени

Слайд 6

Описание слайда:

Слайд 7

Описание слайда:

GO-2 Р=200Вт Т=3мин , ID/IG=2.58, d=4,15 nm. GO-2 Р=200Вт Т=3мин , ID/IG=2.58, d=4,15 nm.

Слайд 8

Описание слайда:

GO-3 P=200Вт Т=3мин ID/IG=2.03 GO-3 P=200Вт Т=3мин ID/IG=2.03

Слайд 9

Описание слайда:

GO-1,GO-2,GO-3 после 12-ти минутной обработки в плазме GO-1 GO-2 GO-3

Слайд 10

Описание слайда:

Сравнение соотношений ID/IG После вакуумной отжига

Слайд 11

Описание слайда:

Заключение Сопротивление ОГ в н.у. линейно увеличивается в зависимости от времени как для обработанных в плазме так и для не обработанных образцов; Обработка ОГ с CH4 приводит к образованию к аморфной углеродной плёнки на поверхности образца; С увеличением времени обработки появляется широкая полоса фотолюменосценции в УФ-области(от 2000 до 3500 см-1);