Магнетронное распыление - презентация, доклад, проект скачать

Нажмите для полного просмотра!

Содержание ▲

Вы можете ознакомиться и скачать презентацию на тему Магнетронное распыление. Доклад-сообщение содержит 7 слайдов. Презентации для любого класса можно скачать бесплатно. Если материал и наш сайт презентаций Mypresentation Вам понравились – поделитесь им с друзьями с помощью социальных кнопок и добавьте в закладки в своем браузере.

Слайды и текст этой презентации

Слайд 1

Описание слайда:

Студент: Афонин А.Ю. Группа: МТ8-81

Слайд 2

Описание слайда:

Магнетронное распыление — технология нанесения тонких плёнок на подложку с помощью катодного распыления мишени в плазме магнетронного разряда — диодного разряда в скрещенных полях. Магнетронное распыление — технология нанесения тонких плёнок на подложку с помощью катодного распыления мишени в плазме магнетронного разряда — диодного разряда в скрещенных полях. Технологические устройства, предназначенные для реализации этой технологии, называются магнетронными распылительными системами или магнетронами.

Слайд 3

Описание слайда:

Принцип действия установки основан на торможении электронов в скрещенных электрических и магнитных полях. При подаче постоянного напряжения между мишенью и анодом возникает неоднородное электрическое поле и возбуждается тлеющий разряд. Электрон циркулирует в электромагнитной ловушке и сталкивается с атомами рабочего газа (при это он теряет энергию). Таким образом, большая часть энергии электрона, прежде чем он попадает на анод, используется на ионизацию и возбуждение, что приводит к возрастанию концентрации положительных ионов у поверхности мишени. Принцип действия установки основан на торможении электронов в скрещенных электрических и магнитных полях. При подаче постоянного напряжения между мишенью и анодом возникает неоднородное электрическое поле и возбуждается тлеющий разряд. Электрон циркулирует в электромагнитной ловушке и сталкивается с атомами рабочего газа (при это он теряет энергию). Таким образом, большая часть энергии электрона, прежде чем он попадает на анод, используется на ионизацию и возбуждение, что приводит к возрастанию концентрации положительных ионов у поверхности мишени.

Слайд 4

Описание слайда:

При использовании разряда постоянного тока можно распылять различные металлы и их сплавы При использовании разряда постоянного тока можно распылять различные металлы и их сплавы (ванадий, хром, никель, титан, медь, серебро, нержавеющая сталь, латунь, бронза и др.), а также получать их химические соединения, добавляя в плазмообразующий газ (аргон) соответствующие реактивные газы (кислород, азот и др.). Так, если в содержащую титановую мишень систему во время распыления вводить азот, то можно получить пленку нитрида титана, а введение, например, кислорода, позволяет получать на поверхности подложки пленку двуокиси титана. Варьируя содержание реактивного газа и скорость напыления, удается получать пленки разной толщины, химического и фазового состава.

Слайд 5

Описание слайда:

Адгезия металлических слоев с подложкой у пленок, полученных магнетронным способом, существенно выше, чем у таких же пленок, полученных другими способами. Это связано с более высокой энергией конденсирующихся частиц при магнетронном распылении и дополнительной активацией поверхности действием плазмы. Адгезия металлических слоев с подложкой у пленок, полученных магнетронным способом, существенно выше, чем у таких же пленок, полученных другими способами. Это связано с более высокой энергией конденсирующихся частиц при магнетронном распылении и дополнительной активацией поверхности действием плазмы. В отличие от других способов нанесения тонкопленочных покрытий, способ магнетронного распыления позволяет достаточно тонко регулировать толщину металлического слоя, а значит, его сопротивление, что очень важно при создании структур с определенной проводимостью. Метод магнетронного распыления позволяет получать тонкие пленки высокого качества с рекордными физическими характеристиками (толщина, пористость, адгезия и пр.), а также проводить послойный синтез новых структур (структурный дизайн), создавая пленку буквально на уровне атомных плоскостей.

Слайд 6

Описание слайда:

Преимущества: Преимущества: Плотная микро- (нано-) кристаллическая структура металлических и керамических покрытий Возможность нанесения покрытий на термочувствительные материалы при низких температурах Широкий спектр покрытий различного назначения; Высокая скорость осаждения; Высокие свойства металлических и керамических покрытий Недостатки: Относительная сложность технической реализации метода при получении реактивных (керамических) покрытий; Относительно высокая стоимость оборудования