🗊Презентация Рост наноструктур и микроскопия. Методы выращивания наноструктур

Категория: Физика
Нажмите для полного просмотра!
Рост наноструктур и микроскопия. Методы выращивания наноструктур, слайд №1Рост наноструктур и микроскопия. Методы выращивания наноструктур, слайд №2Рост наноструктур и микроскопия. Методы выращивания наноструктур, слайд №3Рост наноструктур и микроскопия. Методы выращивания наноструктур, слайд №4Рост наноструктур и микроскопия. Методы выращивания наноструктур, слайд №5Рост наноструктур и микроскопия. Методы выращивания наноструктур, слайд №6Рост наноструктур и микроскопия. Методы выращивания наноструктур, слайд №7Рост наноструктур и микроскопия. Методы выращивания наноструктур, слайд №8Рост наноструктур и микроскопия. Методы выращивания наноструктур, слайд №9Рост наноструктур и микроскопия. Методы выращивания наноструктур, слайд №10Рост наноструктур и микроскопия. Методы выращивания наноструктур, слайд №11Рост наноструктур и микроскопия. Методы выращивания наноструктур, слайд №12Рост наноструктур и микроскопия. Методы выращивания наноструктур, слайд №13Рост наноструктур и микроскопия. Методы выращивания наноструктур, слайд №14Рост наноструктур и микроскопия. Методы выращивания наноструктур, слайд №15Рост наноструктур и микроскопия. Методы выращивания наноструктур, слайд №16Рост наноструктур и микроскопия. Методы выращивания наноструктур, слайд №17Рост наноструктур и микроскопия. Методы выращивания наноструктур, слайд №18Рост наноструктур и микроскопия. Методы выращивания наноструктур, слайд №19Рост наноструктур и микроскопия. Методы выращивания наноструктур, слайд №20Рост наноструктур и микроскопия. Методы выращивания наноструктур, слайд №21Рост наноструктур и микроскопия. Методы выращивания наноструктур, слайд №22Рост наноструктур и микроскопия. Методы выращивания наноструктур, слайд №23Рост наноструктур и микроскопия. Методы выращивания наноструктур, слайд №24

Содержание

Вы можете ознакомиться и скачать презентацию на тему Рост наноструктур и микроскопия. Методы выращивания наноструктур. Доклад-сообщение содержит 24 слайдов. Презентации для любого класса можно скачать бесплатно. Если материал и наш сайт презентаций Mypresentation Вам понравились – поделитесь им с друзьями с помощью социальных кнопок и добавьте в закладки в своем браузере.

Слайды и текст этой презентации


Слайд 1





МЕТОДЫ  ВЫРАЩИВАНИЯ НАНОСТРУКТУР
Описание слайда:
МЕТОДЫ ВЫРАЩИВАНИЯ НАНОСТРУКТУР

Слайд 2





Эпитаксиальный рост тонкой пленки А на подложке Б  
Монослойный или двумерный рост (атомы группы А притягиваются к подложке сильнее, чем друг к другу. В результате этого атомы сначала объединяются, образуя монослойные островки, которые затем расширяются и сливаются, образуя первый монослой).
Метод Волмера-Вебера (атомы группы А сильнее притягиваются друг к другу, чем к подложке. Таким образом, они сначала будут объединяться, формируя островки, в ходе эпитаксии эти островки будут расти и в конце концов образуют сплошную пленку).
Метод Странского-Крастанова (атомы А сначала будут распределяться по плоскости, создавая или единственный монослой, или тонкую пленку из малого числа монослоев. 
Важным фактором, управляющим ростом эпитаксиальной пленки является несоответствие решеток между эпитаксиальным слоем А и подложкой Б) .
Описание слайда:
Эпитаксиальный рост тонкой пленки А на подложке Б Монослойный или двумерный рост (атомы группы А притягиваются к подложке сильнее, чем друг к другу. В результате этого атомы сначала объединяются, образуя монослойные островки, которые затем расширяются и сливаются, образуя первый монослой). Метод Волмера-Вебера (атомы группы А сильнее притягиваются друг к другу, чем к подложке. Таким образом, они сначала будут объединяться, формируя островки, в ходе эпитаксии эти островки будут расти и в конце концов образуют сплошную пленку). Метод Странского-Крастанова (атомы А сначала будут распределяться по плоскости, создавая или единственный монослой, или тонкую пленку из малого числа монослоев. Важным фактором, управляющим ростом эпитаксиальной пленки является несоответствие решеток между эпитаксиальным слоем А и подложкой Б) .

Слайд 3





Метод Странского-Крастанова
Рост квантовых точек методом Странского-Крастанова
Описание слайда:
Метод Странского-Крастанова Рост квантовых точек методом Странского-Крастанова

Слайд 4





Самоорганизация и самосборка наноструктур
Описание слайда:
Самоорганизация и самосборка наноструктур

Слайд 5





Газофазный синтез
Описание слайда:
Газофазный синтез

Слайд 6





Плазмохимический синтез
Описание слайда:
Плазмохимический синтез

Слайд 7





Осаждение из коллоидных растворов
        Осаждение из коллоидных растворов — метод получения изолированных наночастиц и нанопорошков, заключающийся в прерывании химической реакции между компонентами раствора, после чего система переходит из жидкого коллоидного состояния в дисперсное твердое состояние. 
      (Коллоидная (дисперсная) система — система, в которой дискретные частицы, капли или пузырьки дисперсной фазы, имеющие размер хотя бы в одном из измерений от 1 до 100 нм, распределены в другой фазе, обычно непрерывной, отличающейся от первой по составу или агрегатному состоянию и называющейся дисперсионной средой).
Описание слайда:
Осаждение из коллоидных растворов Осаждение из коллоидных растворов — метод получения изолированных наночастиц и нанопорошков, заключающийся в прерывании химической реакции между компонентами раствора, после чего система переходит из жидкого коллоидного состояния в дисперсное твердое состояние. (Коллоидная (дисперсная) система — система, в которой дискретные частицы, капли или пузырьки дисперсной фазы, имеющие размер хотя бы в одном из измерений от 1 до 100 нм, распределены в другой фазе, обычно непрерывной, отличающейся от первой по составу или агрегатному состоянию и называющейся дисперсионной средой).

Слайд 8





Молекулярно-лучевая эпитаксия
Описание слайда:
Молекулярно-лучевая эпитаксия

Слайд 9





ТЕРМИЧЕСКОЕ РАЗЛОЖЕНИЕ И ВОССТАНОВЛЕНИЕ
ТЕРМИЧЕСКОЕ РАЗЛОЖЕНИЕ И ВОССТАНОВЛЕНИЕ
При термическом разложении обычно используют сложные металлоорганические соединения, гидроксиды, нитраты и т.д., которые при определенной температуре распадаются с образованием синтезируемого вещества и выделением газовой фазы.

МОСГИДРИДНАЯ ГАЗОФАЗНАЯ ЭПИТАКСИЯ
При мосгидридной газофазной эпитаксии (МОСГЭ) гетероструктуры выращиваются в газофазном реакторе при атмосферном давлении. Газовой фазой в таких реакторах обычно является горячий поток водорода, смешанный с атомами осаждаемого вещества.
Описание слайда:
ТЕРМИЧЕСКОЕ РАЗЛОЖЕНИЕ И ВОССТАНОВЛЕНИЕ ТЕРМИЧЕСКОЕ РАЗЛОЖЕНИЕ И ВОССТАНОВЛЕНИЕ При термическом разложении обычно используют сложные металлоорганические соединения, гидроксиды, нитраты и т.д., которые при определенной температуре распадаются с образованием синтезируемого вещества и выделением газовой фазы. МОСГИДРИДНАЯ ГАЗОФАЗНАЯ ЭПИТАКСИЯ При мосгидридной газофазной эпитаксии (МОСГЭ) гетероструктуры выращиваются в газофазном реакторе при атмосферном давлении. Газовой фазой в таких реакторах обычно является горячий поток водорода, смешанный с атомами осаждаемого вещества.

Слайд 10





МЕТОДЫ ИССЛЕДОВАНИЯ НАНОСТРУКТУРИРОВАННЫХ ПОВЕРХНОСТЕЙ
Описание слайда:
МЕТОДЫ ИССЛЕДОВАНИЯ НАНОСТРУКТУРИРОВАННЫХ ПОВЕРХНОСТЕЙ

Слайд 11





Полевая эмиссионная микроскопия
Описание слайда:
Полевая эмиссионная микроскопия

Слайд 12





Полевая ионная  микроскопия
Описание слайда:
Полевая ионная микроскопия

Слайд 13





Просвечивающая электронная микроскопия 
(TEM – transmission electron microscopy)
Описание слайда:
Просвечивающая электронная микроскопия (TEM – transmission electron microscopy)

Слайд 14





Отражательная электронная микроскопия
Описание слайда:
Отражательная электронная микроскопия

Слайд 15





Микроскопия медленных электронов
Описание слайда:
Микроскопия медленных электронов

Слайд 16





Сканирующая электронная микроскопия (SEM – scanning electron microscopy)
Описание слайда:
Сканирующая электронная микроскопия (SEM – scanning electron microscopy)

Слайд 17





Зондовая микроскопия
Описание слайда:
Зондовая микроскопия

Слайд 18





Сканирующая туннельная микроскопия
Описание слайда:
Сканирующая туннельная микроскопия

Слайд 19


Рост наноструктур и микроскопия. Методы выращивания наноструктур, слайд №19
Описание слайда:

Слайд 20





Атомно-силовая микроскопия
Описание слайда:
Атомно-силовая микроскопия

Слайд 21





Режимы работы АСМ

1)	Контактный режим. Расстояние от иглы до образца порядка нескольких ангстрем, т.е. игла находится в мягком физическом контакте с образцом и подвержена действию сил отталкивания. Кантилевер должен быть очень гибким. Взаимодействие между иглой и образцом заставит кантилевер изгибаться, повторяя топографию поверхности.
2)	Бесконтактный режим. Расстояние от иглы до образца порядка 10 - 100 Å, т.е. на кантилевер действуют силы притяжения. В этом режиме жесткий кантилевер заставляют колебаться  вблизи его резонансной частоты (обычно порядка  100 – 400 кГц, типичные амплитуды порядка 10Å). Из-за взаимодействия с образцом резонансная частота кантилевера меняется.
3)	Полуконтактный режим. Аналогичен бесконтактному режиму, отличие: игла кантилевера в нижней точке своих колебаний слегка касается поверхности образца. Полуконтактный режим не обеспечивает атомарного  разрешения, но применяется для получения изображений шероховатых поверхностей с высоким рельефом.
Описание слайда:
Режимы работы АСМ 1) Контактный режим. Расстояние от иглы до образца порядка нескольких ангстрем, т.е. игла находится в мягком физическом контакте с образцом и подвержена действию сил отталкивания. Кантилевер должен быть очень гибким. Взаимодействие между иглой и образцом заставит кантилевер изгибаться, повторяя топографию поверхности. 2) Бесконтактный режим. Расстояние от иглы до образца порядка 10 - 100 Å, т.е. на кантилевер действуют силы притяжения. В этом режиме жесткий кантилевер заставляют колебаться вблизи его резонансной частоты (обычно порядка 100 – 400 кГц, типичные амплитуды порядка 10Å). Из-за взаимодействия с образцом резонансная частота кантилевера меняется. 3) Полуконтактный режим. Аналогичен бесконтактному режиму, отличие: игла кантилевера в нижней точке своих колебаний слегка касается поверхности образца. Полуконтактный режим не обеспечивает атомарного разрешения, но применяется для получения изображений шероховатых поверхностей с высоким рельефом.

Слайд 22





Атомно-силовая микроскопия
Описание слайда:
Атомно-силовая микроскопия

Слайд 23


Рост наноструктур и микроскопия. Методы выращивания наноструктур, слайд №23
Описание слайда:

Слайд 24





Спасибо за внимание!
Описание слайда:
Спасибо за внимание!



Похожие презентации
Mypresentation.ru
Загрузить презентацию