Субмикронная литография - презентация, доклад, проект скачать

Нажмите для полного просмотра!

Содержание ▲

Вы можете ознакомиться и скачать презентацию на тему Субмикронная литография. Доклад-сообщение содержит 22 слайдов. Презентации для любого класса можно скачать бесплатно. Если материал и наш сайт презентаций Mypresentation Вам понравились – поделитесь им с друзьями с помощью социальных кнопок и добавьте в закладки в своем браузере.

Слайды и текст этой презентации

Слайд 1

Описание слайда:

Субмикронная литография

Слайд 2

Описание слайда:

Тенденции развития: уменьшение размера элемента (топологической нормы) Топологическая норма - полуширина линии и пространства между линиями в регулярных плотно упакованных полосчатых структурах. Разрешение для изолированных элементов, например затворов транзисторов, может быть в 1,4–1,8 раз меньше топологической нормы.

Слайд 3

Описание слайда:

Тенденции развития: увеличение степени интеграции

Слайд 4

Описание слайда:

Проекционная литография

Слайд 5

Описание слайда:

Параметр k1

Слайд 6

Описание слайда:

Фазосдвигающий шаблон

Слайд 7

Описание слайда:

Принцип действия фазосдвигающего шаблона

Слайд 8

Описание слайда:

Коррекция эффекта близости

Слайд 9

Описание слайда:

Длина волны экспонирующего излучения

Слайд 10

Описание слайда:

Длина волны освещения и топологическая норма

Слайд 11

Описание слайда:

Иммерсионная литография: увеличение числовой апертуры (NA) NA = n sinθ, где n – коэффициент преломления среды между линзой и фоторезистивной маской (для воздуха n = 1), θ – наибольший угол сбора лучей с поверхности резиста и определяется размером линзы. NA выросла за счёт разработки новых линз от 0.5 (1990 г.) до 0.8 (2004 г.) и предполагается её рост до 1 и более в будущем. На пути совершенствования линз есть большие сложности (вес проекционных линз, уменьшающих рисунок шаблона, составляет более 1000 кг). Более простой путь – это увеличение n за счёт замены воздуха на жидкую среду с большим n, например, на DI воду (n = 1.43662 на = 193 нм и 21.5 С, рост NA на 44%). Это иммерсионная литография, первые установки будут использованы в промышленности в 2007 году.